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磁控离子溅射仪库号:M415910

磁控离子溅射仪库号:M415910

磁控离子溅射仪 型号:WZX-ARIES-700库号:M415910 查看hh



技术参数

适用场景 适用于CHAO高分辨场发射扫描电镜(FE-SEM)及FIB样品表面导电镀层制备

真空泵组 无油隔膜泵+涡轮分子泵组合

抽速配置 隔膜泵≥0.7m7h,分子泵60 L/s

JI限真空<5x10Pa

工作气压0.5-8 Pa

气体控

  • 产品型号:型号:WZX-ARIES-700
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2026-09-30
  • 访  问  量:7
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产品详情

磁控离子溅射仪库号:M415910

磁控离子溅射仪 型号:WZX-ARIES-700库号:M415910   查看hh

      

技术参数

适用场景 适用于CHAO高分辨场发射扫描电镜(FE-SEM)及FIB样品表面导电镀层制备

真空泵组 无油隔膜泵+涡轮分子泵组合

抽速配置 隔膜泵≥0.7m7h,分子泵60 L/s

JI限真空<5x10Pa

工作气压0.5-8 Pa

气体控制系统 MFC气体质量流量控制器(>2SCCM)

溅射JI时 <999s

真空测量 高真空复合真空计

腔室尺寸 φ170 x 135 mm

旋转样品台 直径80 mm.转速60RPM

靶基距离55-70mm 连续可调

溅射靶材支持中30mm靶材

溅射电源 恒功率溅射电源,ZUI大输出电流100mA

操作方式 触摸屏程序化控制

设备尺寸 430 mm (长)x 390 mm (宽) x 510 mm (高)

工作电源220V AC

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技术参数

适用场景 适用于CHAO高分辨场发射扫描电镜(FE-SEM)及FIB样品表面导电镀层制备

真空泵组 无油隔膜泵+涡轮分子泵组合

抽速配置 隔膜泵≥0.7m7h,分子泵60 L/s

JI限真空<5x10Pa

工作气压0.5-8 Pa

气体控制系统 MFC气体质量流量控制器(>2SCCM)

溅射JI时 <999s

真空测量 高真空复合真空计

腔室尺寸 φ170 x 135 mm

旋转样品台 直径80 mm.转速60RPM

靶基距离55-70mm 连续可调

溅射靶材支持中30mm靶材

溅射电源 恒功率溅射电源,ZUI大输出电流100mA

操作方式 触摸屏程序化控制

设备尺寸 430 mm (长)x 390 mm (宽) x 510 mm (高)

工作电源220V AC


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